閉環(huán)控制全面保護

基于RCA標準流程去除有機物、金屬及顆粒雜質。支持TopCon工藝的超薄氧化層預處理。

產(chǎn)品特點

閉環(huán)控制

閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機構運動平穩(wěn)性。

全面保護

拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面拋光。

高效烘干

烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式。

進口PLC控制

進口PLC控制，穩(wěn)步提升設備的產(chǎn)能。

機械臂慢提

采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效光伏電池發(fā)展趨勢。

精準控溫

工藝槽采用經(jīng)典的內外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。

更高潔凈度

引進半導體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。

功能	去除 PSG 去除多晶硅沉積的正面 (LPCVD) PECVD 繞鍍層, 去除表面剩余的 BSG
產(chǎn)能	去PSG 12道產(chǎn)能≥14500PCS/h(182) 去PSG 12道產(chǎn)能≥12500PCS/h(210) 槽式RCA≥14500PCS/h(6籃182);≥11500PCS/h(4籃182) 槽式RCA≥12000PCS/h(6籃210);≥9600PCS/h(4籃210) 碎片率≤0.01%, Uptime≥98% 速度：1-4.5m/min可調
優(yōu)勢	1.閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機構運動平穩(wěn)性 2.拋光槽：上表面采用水膜保護及滾輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理 3.烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式，鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好 4.進口PLC控制，穩(wěn)步提升設備的產(chǎn)能 5.采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢 6.工藝槽采用經(jīng)典的內外槽循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差<±1℃ 7.引進半導體清洗工藝, 保證硅片表面的潔凈度